特点：
　　先进的箱式工作室。
　　良好的真空性能，确保蒸镀时达2×10-3Pa。
　　光学膜厚测试系统，提高测量酒精度及工作可能性。
　　四坩埚E型偏转，电子枪蒸发源，带X-Y扫描功能。
　　独立的电控柜。

应用：
　　该机是塑料薄膜，光学仪器、激光工业、眼镜、照相制造、光学薄膜、微型大规模集成电路等行业的理想设备。

主要规格：

镀膜室尺寸 Vacuum chamber	φ850×800 mm
球面工件架尺寸 Substrate Rack of Spherical type	φ800 mm
行星工件架尺寸Substrate Rack of Plant type	3-φ150 mm
工件架转速Removing speed of substrate	0~35 r.p.m(可调)
极限压力Ultimate pressure	≤4×10-４ Pa
电子枪功率Electron gun power	3KW(四坩埚，每个容量10ml)
烘烤功率Back power	6KW（0~350℃可调）
离子轰击功率lon Bombard Power	1.5KW
比较片转换工位Contrasting Plate	6位
电阻蒸发源功率Resistance Evaporation Source Power	2组（每组5KW）