特点:
箱体为卧式或立式结构，它具有抽气能力强、真空度高、真空室容量大、生产成本低且无公害等优点、靶材利用率达80％
应用:
用于各种装饰性镀（铝靶）、（钛靶）、（不锈钢靶），光学放光镜生产（铬靶）等。
主要规格:
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真空室尺寸 Size of vacuum chamber mm |
φ1500×1750mm |
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极限真空 Limit vacuum Pa |
≤6×10-3 Pa |
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抽气时间 Pumping time |
(从大气~6×10-2 Pa)≤6min |
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工件架Substrate rack |
6-φ430×1461mm |
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靶电源功率 target power |
100KVA |
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靶转速 target speed |
0-15 r.p.m |
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工件架转速 Revolving speed of substrate rack |
公转0~30r.p.m/自转0~180r.p.m |
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真空配置系统 Vacuum system |
K-630 2 台 |
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ZJ-1200 1台 |
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H-150 1台 |
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2X-30 2台 |
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冲气系统Inflation system |
一套 |
